SPS SPIN150x 旋涂仪用于光刻胶涂层清洗

POLOS ® SPIN150x 是一种多功能、高质量的基底

旋涂机，由 NPP 制成。它专为研发和小批量生产
而设计。台式型号可手动或自动（可选）分配化学
品。
腔体规格
外壳材质
天然聚丙烯（NPP）
大底物直径
大可用 6” (150 mm) 晶圆
大可用 4” x 4” (100 mm) 底物
我们的新 POLOS ® SPIN150 X 将于2024
年开始供应
SPIN150x 旋涂仪具有以下特点：
操作与编程便捷
可拆卸触摸屏：配备大尺寸可拆卸全尺寸触摸屏，方便操作，且具有手套防护、IP52 防护等级，耐化学腐蚀，可在各种实验环境下轻松使用。
直观编程界面：触摸屏显示，可轻松编程速度、加速度和时间等参数，具有无限程序存储功能，可用于多个步骤搭配，每个步骤的时间可在 0.1 至 99999 秒之间设置，速度为 0 至 12,000rpm，旋转方向有顺时针、逆时针、搅动三种选择，加速 / 减速可在 1 至 30,000rpm/sec 之间可选。
数据传输与管理：设有 USB 端口，可轻松上传和下载配方以及更新软件版本，同时还有结构化和受密码保护的方案存储，可轻松安全地进行管理。
转速控制精准
高精度转速：采用数字电机控制，具有数字增量速度信号的数字实时闭环控制伺服电机反馈，能提供高精度的转速，精度可达 ±0.1rpm，同时转速范围宽广，为 1 至 12,000rpm。
稳定高速运行：允许用户在广泛的旋转速度参数下工作，系统高速运行时更稳定，振动更少，相比传统 PID 电机控制器具有明显优势。
安全性能出色
安全联锁装置：Process Chambe Lid 始终为所有用户安全锁定，仅在单击盖子打开显示图标时才能打开。电磁盖联锁在打开时停止旋转，而真空联锁（可编程）在没有足够真空或没有真空的情况下停止旋转，防止伤害使用者并避免基材破裂。
电气安全保护：具有国际 CE 标志和过载保护的电气安全，确保仪器在使用过程中的安全性。
三个可编程继电器输出：可用于操作自动分配系统、外部阀或其他附件，方便用户根据需求进行安全防护方面的扩展。
样品处理多样
多种夹头选择：有多种夹头可供选择，用于直径 为 160mm 的不同尺寸的基板，可适配 6”(150mm) 的晶圆以及 4”x4”(100mm) 的底物。
定心辅助装置：定心辅助装置（FS-POLOS200）可与 SPIN150x 配合使用，适用于 2 “至 8” 的晶圆尺寸以及 6 “x6” 的方形基板，方便基板的定位和固定。
结构设计合理
透明盖设计：淬火的透明玻璃瓶盖，带有注射器支架和 N2 扩散器，可在处理过程中进行 N2 吹扫。注射器支架可帮助用户始终在期望的相同位置分配抗蚀剂 / 化学物质，同时坚固的自弹式盖铰链，可自动将盖保持在 状态，以便轻松搬运和卸下基板，也能确保盖子上的任何残留化学物质都流入系统排水口。
可切换模式：独特的外壳和排水管设计，可切换桌面和 Indeck 模式，方便在不同的实验场景和空间需求下使用。
耐腐蚀结构：采用 NPP-H（具有 α 晶的天然聚丙烯）的耐腐蚀结构，为整个系统提供更好的刚性和韧性，高品质无缝制造表面，全工程塑料材质，适用于通风柜和杂物箱。
应用领域广泛
半导体领域：可用于光刻胶涂层、清洁半导体晶片上的光致抗蚀剂，满足半导体行业的高质量标准。
材料科学领域：可用于聚合物薄膜的制备，如 PDMS 和 PMMA 的嵌段共聚物（BCP），以及通过低成本溶胶–gel 方法旋涂 ZnO 薄膜等。

其他领域：在生物技术、纳米技术、光学等领域也有广泛应用，例如在生物材料表面进行涂层处理，以及制备纳米薄膜材料、光学薄膜等。

SPS SPIN150x 旋涂仪用于光刻胶涂层清洗