Elma艾尔玛超声波清洗机P120H用于半导体设备清洗

Elma超声波清洗机P120H的技术资料

超声频率（KHZ）       37/80
超声波有效功率（W）   330
超声波峰值功率（W）   1320
加热功率（W）         1000
总功率（W）           1330
电源电压(V)           220-240
量(L)             12.75
外形尺寸(MM)          365/278/321
内槽尺寸(MM)          300/240/200
篮子内部尺寸(MM)      250/190/115

流程V4A               3/8"

Elma 超声波清洗机 P120H 凭借其双频技术、扫描振动功能、脉冲功能等特性，可用于半导体行业的芯片清洗、光刻胶去除、零部件清洗等环节，具体如下：
芯片表面清洗：半导体芯片制造过程中，芯片表面会附着微小颗粒、有机物残留等杂质。P120H 的 37kHz 和 80kHz 双频率技术可灵活应对不同清洗需求。低频 37kHz 适用于常规清洗，能产生较强的空化效应，去除芯片表面较顽固的杂质；高频 80kHz 则适合精细清洗，可轻柔清洗芯片上的微小结构，避免损伤芯片，确保芯片的性能和良品率。
光刻胶去除：在光刻工艺后，需要去除多余的光刻胶。P120H 的脉冲功能可通过增加峰值功率，切换 “额外功率” 模式，产生更强的清洗能量，有效去除光刻胶。同时，扫描振动功能能够在整个清洗槽中均匀分配功率，使光刻胶去除更均匀，避免因清洗不均导致的芯片缺陷。
半导体零部件清洗：对于半导体制造设备中的零部件，如晶圆夹具、掩膜版等，P120H 可去除其表面的油污、灰尘等污染物。其大容量清洗槽设计可为这些零部件提供足够的清洗空间，自动温度控制系统能将清洗液维持在 温度，提高清洗效果，确保零部件的精度和性能，进而保证半导体制造设备的正常运行。
清洗后脱气处理：半导体行业在某些工艺环节，如镀膜、封装等，需要对清洗后的零部件或芯片进行脱气处理，以防止气泡影响工艺质量。Elma P120H 的可激活脱气模式和自动脱气循环功能，能快速去除清洗液或样品中的气体，满足半导体工艺的要求。